買？
那這個僵局不就是自然而然的打破了？
“尹總，你的這個方向完全是可行的！”
“我們南山裝置下一步除了推進28奈米工藝的成熟度之外，就是研發14奈米的生產工藝裝置。”
“如果蝕刻機能夠進一步的做到比14奈米更加先進，那麼就算是初步完成了你說的目標。”
成本方面，曹陽沒有說任何內容。
因為只要華夏廠家能夠生產的裝置，成本肯定是比國際裝置巨頭要便宜一大截的。
現在購買一臺蝕刻機要5000萬的話，那麼中微半導體肯定是2500萬可以搞定的。
“28奈米的蝕刻機，我們現在就已經研發出來了，最晚在今年內就具備量產的水平，明年上半年就可以正式的交付給南山半導體使用。”
“與此同時，我準備跳過14奈米的蝕刻機技術，直接研發7奈米的蝕刻機。”
“到時候我們的蝕刻機在今後十年內都不會過時，只需要進行一些技術升級和降成本的活動就行了。”
尹志強對蝕刻機的發展顯然是非常有信心的。
“蝕刻機的生產難度雖然不是所有裝置中最難的，但也是技術含量很高的，直接跳過14奈米的話，會不會太有挑戰性了？”
曹陽雖然希望尹志強能夠輕鬆的完成自己說的方案。
不過還是忍不住多關心了幾句。
“曹總，要理解這個方案的可能性，就要涉及到蝕刻技術的工作原理了。”
“我先跟你好好嘮叨一下。”
尹志強顯然是準備展現一下自己的專業水平，讓曹陽相信中微半導體可以搞定更加先進的蝕刻機。
“刻蝕技術可以分為兩類，一是使用液態化學品的溼法刻蝕，讓矽片在強酸強鹼的泡澡淋浴中定量減肥。”
“二是使用氣體等離子體的幹法刻蝕，讓矽片在化學氣體的離子轟擊下區域性瘦身。”
“其中溼法刻蝕的技能早就被人類點亮，比如中世紀的歐洲人，會用酸性溶液，在金屬盔甲上蝕刻雕花。”
“明代的《格古要論》中也有記載：凡刀劍器，打磨光淨，用金絲礬礬之，其花紋則見。”
“明朝人說的金絲礬就是一種硫酸鹽，因此當歷史進入積體電路的時代，工程師們首先想到的也是利用各種酸鹼的腐蝕性，來大規模地刻出晶片，製程工藝中的刻蝕之名，由此產生。”
“刻蝕中有三個關鍵指標：刻蝕速率，選擇比和方向性。”
“其中刻蝕速率指的是物質被溶解的速度，通常用每分鐘損失多少微米的厚度來計量。”
“在晶片製程中，一個部位的刻蝕深度，通常是用刻蝕時長來控制的，因此保證一個精確且恆定的刻蝕速率非常重要，而這對於刻蝕液的純度，配比，和濃度變化的要求很高。”
“基於化學反應的溼法刻蝕，只能儘量減少橫向刻蝕，完全的各向異性它做不到。”
“在晶片製程的早期，器件結構比較粗糙，線寬間距也夠大，刻蝕方向性差一點，問題還不大。”
“但隨著製程進入次微米級，溼法刻蝕就跟不上晶片的精度要求了，邏輯電路自然不用說，關鍵層需要奈米級的精密刻蝕，即便像DRAM之類相對粗糙的儲存晶片，要刻出裡面又窄又深的電容溝槽，也需要方向感極強的雕刻方法，這就是幹法刻蝕。”
“溼法用的是液體，幹法用的則是氣體，晶片廠每天消耗很多特種氣體，其中很大一部分就用於刻蝕。”
“這些氣體在精確配比後，被通入反應腔內，再用電容或電感耦合的方式，讓氣體完全或部分電離，形成等離子體或離子束，經過電場加速，射向矽片進行刻蝕，這是一種兼具物理與化學屬性的雕刻方式。”
“主流的晶片製程中，超過90%的晶片刻蝕都是幹法，因為它的方向性好，氣體配比和射頻電源也能實現更精密的調控。”
“至於缺點，拋開技術的複雜度不談，主要有兩個，一個是貴，一個是慢。”
“一臺進口刻蝕機的價格，數百萬美元，那比光刻機是便宜多了，但是不同介質的刻蝕，需要買不同的刻蝕機。”
“而且工藝中，刻蝕的時長遠超光刻，畢竟人家是用光來刻嘛。”
“因此產線上一臺光刻機，要配多臺刻蝕機，按照裝置總成本來計算，兩者的開銷差不多。”
“相比光刻機對光線的精確控制，蝕刻機更多的是需要對氣體進行精確控制，兩者的精度要求雖然差不多，但是生產難度卻是完全不同的。”
“光刻機裡頭，光學系統的加工難度是非常高的，特別是裡面的鏡片，國內還真是很難找到符合要求的廠家。”
“你找蔡司購買的話，人家不一定會賣給你跟阿斯麥一個水平的產品。”