RATE 20
TIME 100
第一階段，以30攝氏度每分鐘的速率升至30攝氏度，等待60分鐘；
第二階段，以30攝氏度每分鐘的速率升至400攝氏度，等待3分鐘；
第三階段，以20攝氏度每分鐘的速率升至520攝氏度，等待100分鐘。
確認無誤後，他長按啟動鍵，啟動程式。
升溫程式需要跑一個多小時。
在此期間，許秋向學姐請教了真空系統的工作原理。
陳婉清講解道：“機械泵，最多隻能將艙內壓強降至零點幾帕，必須使用分子泵才能將壓強降低至十的負五次方帕這個數量級，從而達到蒸鍍實驗所需的最低真空度要求。
分子泵只能在低壓強下使用。所以在壓強大於20帕時，採用超真空擋板閥，阻隔分子泵和蒸鍍艙連線；當壓力低於20帕時將其關閉，再使分子泵和蒸鍍艙連通。
分子泵啟動後，還需要較長的時間，才能使蒸鍍艙內壓強達到1E5級別。
這個時間在半小時至一個半小時之間。
如果一個半小時過後仍無法達到這個真空度，通常有兩種情況。
一種是體系氣密性不好，比如在關艙門時，門縫處夾了一個塑膠袋；
另一種情況是艙體內蒸鍍殘留物過多，需要清理。”
雖然系統裡也有影像資料供許秋學習，但他覺得還是聽學姐講解更好一些。
主要是兩個人站一起，一直不互動也蠻尷尬的。
……
一小時後。
真空計示數達到5.2E5帕，升溫程式也進入第二階段，一切正常。
十二分鐘後。
溫度示數達到400攝氏度，膜厚儀顯示的實時蒸鍍速率，在0.01至0.01埃每秒之間波動，膜厚顯示仍為0.00埃。
三分鐘後。
溫度示數繼續增加，直至480攝氏度左右，蒸鍍速率開始在0.00至0.03埃每秒之間波動。
當溫度達到520攝氏度後，蒸鍍速率維持在0.20至0.30埃每秒。
許秋先開啟樣品臺旋轉，在等待了約十秒鐘後，同時開啟樣品擋板並將膜厚儀的膜厚計數器歸零。
鈣要蒸鍍10奈米的厚度，也就是100埃。
……
待膜厚儀示數達到100埃時，許秋迅速關閉樣品擋板。
隨後，他將束源爐升溫數控裝置關閉，讓束源爐自然降溫。
最後，將膜厚儀的引數改為鋁的引數。
……
半小時後。
束源爐的溫度降低至77攝氏度。
許秋關閉鈣的束源爐擋板，開啟電流加熱裝置。
這個加熱裝置很簡單，就是把電源、鎢簍、電位器（類似於滑動變阻器）、保險絲、電流計連在一起，透過調節電位器，便可以改變電路中的電流大小。
許秋緩慢扭動電位器的旋鈕，使電流計示數從0逐漸增加至18安培。
當電流達到16安培時，膜厚儀上蒸鍍速率開始有了示數。
電流達到18安培後，許秋等待了幾秒，然後同時開啟樣品擋板並清零膜厚儀的膜厚計數器。