“餘總，其實對於ASML的裝置，我不熟悉，以前也未曾使用過。所以我想說的不多。不過我想強調一點的是，裝置製造標準的統一性，具體來說就是和目前香積電已經存在的3微米光刻機的協調配合，甚至與曰本其他廠商生產的刻蝕機、離子注入機等裝置配合，都要考慮在內！”
鹿島智樹給大家進一步解釋……
香積電的工藝實驗室（研發中心）和廠裡生產線的批次生產的裝置雖然屬於同一機種，要將實驗室的工藝匯入到生產線，對生產線進行升級，想要得到最終理想的目標工藝結果，比如說1.2微米的工藝製程，就必須不斷的對生產線的裝置或者工藝做進一步調整，最後找到一個微妙的合適的某一點，或者無限接近這個點，最終讓所有的裝置和工藝處於最佳的狀態，良率大幅度提高，確保在80以上……
如果這個點找不出來，就算是可以除錯出1.2微米的製程來，但是良率會上不去……甚至有可能良率為零的可能！
要知道，即使是同一家生產的同一個規格型號的裝置，也是存在這微小的效能和狀態差異，這種差異稱之為“機差”。
“機差”，是每一個半導體制造裝置廠家在生產同一型號的裝置時，因不可控因素的存在而導致的裝置差異。
隨著半導體裝置精密化程度的不斷提高，機差的問題也日益顯著。
正是因為機差等各種因素影響，一般來說，新建設的生產線試生產時，初始良率幾乎都是零。而將良率儘快提高到接近80%（或者某一目標值），並且長期維持接近80%（或者某一目標值）的成品率的技術，才是工廠批次生產的最終目標和要求！
“所以，餘總，我建議我們在裝置採購的合同上一定要特備要求，各裝置廠家在裝置安裝除錯期間，必須選派技術熟練的技術人員到場指導、或者監督，確保每一臺裝置的正確安裝，乃至下一步的裝置聯試的順利進行，最大程度的縮短除錯周期！然後開始產生效益！哪怕是我們為此付出額外的裝置安裝指導的技術工人費用，都是非常值得的！”
“說的好！”聽到鹿島智樹真知灼見，餘子賢不僅為自己能夠成功聘請鹿島智樹慶幸！以為下一步香積電的生產線升級慶幸！
想必，有這位專家監督，香積電的生產線升級改造會少走許多彎路，順利許多！
“鹿島叔，你還有什麼補充的嗎？”
“暫時沒有了！”
“那其他人還有沒有補充的？”
“沒有……”
“沒有！”
……
“那好，我再說兩點：第一，我們暫時將生產線晶片工藝製程確定為1.2微米級別！我們4英寸晶圓的對應晶片工藝製程最小就是1.2微米！”
第二，程渡，你下來之後趕快聯絡曹飛他們，讓他們再一次接觸佳能，加強公關，爭取讓佳能儘早回覆1.2微米光刻機步進式的出售可能性……並且讓他們加快其他裝置廠商的談判，爭取早日供貨，最好在1個月內就能供貨……
如果ASML這邊的PAS2300最終能夠談妥，光刻機裝置的供貨可就馬上到位了，其他裝置的供貨自然也需要加快！
“第三，佟若愚，下來之後，你馬上通知蔡俊傑，讓實驗室再一次梳理1.2微米工藝流程，並且根據我們香積電的裝置以及技術實際，制定嚴密的工藝匯入和除錯方案！”
“鹿島叔，就辛苦你配合蔡俊傑的實驗室，做好各種方案的稽核等技術工作！”
“好的，餘總！”鹿島智樹欣然答應。
突然，鹿島智樹想到什麼，又接著說道：“餘總，香積電目前3微米工藝對應的淨化廠房和輔助動力設施的建設標準需要提高了……按照1.2微米工藝製程的需要，我建議……”
在鹿島智樹的建議下，最後決定同時升級廠房建設標準！
擴大5000平米淨化廠房以及提高輔助動力設施，建設高標準、高質量的水氣電動力保障，要求純水質量達到20兆歐以上；二氧化氮、氧氣、氫氣等氣體管道全採用高規格不鏽鋼管，並配置高純度的氣體淨化器；供電也採用的是雙路雙電源供電，更換ms級自動切換電源裝置，淨化間潔淨度分割槽採用1000級和100級，就連光刻間的黃光區也升級改造到10級！
這樣下來，目前1.5微米的生產線所在的淨化廠房以及動力設施達到了國際通用標準水平。
陳樹林的1000萬美元，給了餘子賢提高工藝標準高的底氣。而且這1000萬隻能專款專用，所以，餘子賢其他的想法就沒了，儘快的讓這1000萬美元變成可以生產晶片的生產線，這才是對他最好應用！
至於剩下的尾款缺口……應該“雪球計劃”應該來得及！
就在餘子賢安排最後的事務時，餘子賢聽到了門外敲門的聲音。
餘子賢住的酒店房間屬於辦公套房，小會議室、會客廳一應俱全。
沒過兩分鐘，出去開門的程渡回來了，對於這些說道：“裡託斯先生來了……”
“哦，沒想到他們這麼快來了……”
PS：抱歉，這幾章專業性內容太強，查詢了大量資料，更新修復上一章節（179章）有點慢，見諒。
 
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