如果對於這個論文不太熟悉的話，那麼而這份設計方案還有一個名字。
光刻工廠！
是的，在王東來前世的時候，就曾經有過一段時間出現了鋪天蓋地的相關營銷文章。
ASML打造小而精的光刻機，這是為了出口賺錢。
而華國作為被制裁的國家，地大物博，又不用出口，完全可以直接採用一種相反的研發理念。
那就是將光刻機進行擴大化。
從小小的一臺光刻機，變成一個佔地巨大的光刻工廠。
理想狀態下的光刻機，一天24小時可以生產600×400顆晶片，也就是二十四萬顆晶片，除去其中的次品之後，一天能剩下二十萬顆左右。
但是，要注意到這是理想狀態下。
實際上，一臺光刻機的工作效率受到很多種因素的影響，包括光刻機的型號、工藝、晶圓大小、晶片尺寸和複雜度等。
不同型號的光刻機在光源系統、光學鏡頭、雙工作臺等方面的差異，直接決定了光刻機的解析度、套刻精度和生產效率。
最後，理想狀態下可以一天生產二十萬合格晶片的光刻機，其實能夠生產出來的晶片僅僅只有兩萬左右。
但是，如果換成光刻工廠的話，主打的就是一個量大實惠。
一次性可以生產的晶片，遠遠超過光刻機，不管是理想狀態下的生產數量還是實際生產數量，都會暴打光刻機。
只是，在前世的時候，對於光刻工廠的真實性和可信性，根本沒有得到學術界的承認。
王東來此世早就生出了這樣的想法。
而在學習到了相關知識之後，王東來也明白了此事的難度。
理想很美好，現實很骨感。
想要完成光刻工廠的設想，難度極大。
絕對不比研發出一臺高效能的EUV光刻機簡單。
甚至，從某一種方面來說，難度還要更大。
然而，天才就是天才。
如果換成其他人的話，根本不可能有實現的可能性。
畢竟，將一款成熟的技術進行擴大化，可不是簡單的擴大就行了。
要做到這一點，就必須要對該技術有極為深刻的瞭解和清楚的認知。
如此，才能將這個技術成功地擴大化，並應用在實際上。
等離子刻蝕機突破了，EDA設計軟體成型了，先進設計方案也驗證成功了，光刻膠也完成了。
現在，在半導體領域還差光學鏡頭、晶圓片、矽晶體等材料和裝置了。
這些都很重要，可是，還遠遠比不上光刻裝置的重要。
有著前世的記憶，王東來知道明年將會是一個新的開始。
白頭鷹上臺的那位商人頭領，可不是一個好相與的。
手裡揮舞著制裁大棒，可是給了全球狠狠一棒。
不過，這一棒對於國內還是有好處的，打蒙一部分人的同時，也打醒了一部分人。
拋開僥倖心理之後，國內在很多領域上都完成了突破，以國產取代進口。
王東來知道這件事，自然不會錯過。
好風憑藉力，送我上青雲。
以他的能力，再加上大勢相助，取得成功自然不是什麼難題。