bsec光刻機工作臺研究所如今又研製成功適合5英寸晶圓和1um製程工藝、6英寸晶圓和1um製程工藝、6英寸和800nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統。
經過6個多月的等待，bsec從國家專利局拿到了5英寸晶圓和1.5um製程工藝光刻機的公司發明專利證書。
bsec為華越半導體公司生產的一條5英寸晶圓和1.5um製程工藝半導體生產線正在有序的生產之中。
&n製程工藝光刻機的生產技術還沒有拿到世界專利局批准的公司發明專利。
按照西方人的辦事風格，沒有18個月是拿不到的。
bsec又在國內專利局和世界專利局分別提交了適合5英寸晶圓和1um製程工藝、6英寸晶圓和1um製程工藝、6英寸和800nm製程、8英寸和500nm製程工藝、8英寸和350nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統公司發明專利的申請。
前三項是bsec研發成功的公司發明專利技術，後二項是gca研發成功的公司發明專利技術。
按照雙方簽訂的專利技術轉讓協定，gca只有適合8英寸和500nm製程工藝、8英寸和350nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統專利技術使用權，沒有專利技術轉讓權。
在arfi準分子鐳射器研發成功之前，bsec光刻機工作臺研究所繼續研發適合8英寸和500nm製程工藝、8英寸和350nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統，與gca研發成功的雙工作臺系統進行對比，取長補短，為研發適應浸沒式光刻系統的磁懸浮式雙工作臺系統儲備技術。
根據九二年修訂的專利法，國內的發明專利保護期限變成了20年，實用新型專利權和外觀設計專利權的期限為10年，均自申請之日起計算。
只要重新申請的新發明專利比前一個發明專利更先進，發明專利的保護期限可以一直延長下去，形成事實上的技術壟斷，就像windos系統！
“艾德里安總經理，申請明天的股票停牌，邀請sematech專家組對gca3500b進行技術認證，拿到認證鑑定後，申請公司發明專利，邀請ii、amd、hp、三星和臺積電等半導體制造企業參觀gca3500b光刻機樣機。”
從餘建國的口裡知道，gca今天上午的股票小幅下跌，特大利好訊息沒有洩密！
“好的，董事長！”
“艾德里安總經理，我們新研製gca3500b光刻機的生產成本是多少萬美元？出廠價打算定多少？”
一臺nikon3500b光刻機，市場售價如今是3700萬美元。
“孫總，據初步核算，成本要1800萬美元，市場售價定在4000萬美元。”
“艾德里安總經理，一旦訊息傳出去，我預測nikon3500b光刻機肯定會大幅降價，我們的市場售價就賣3500萬美元，薄利多銷，讓利於客戶。”
如今，nikon光刻機裝置公司正在研製8英寸晶圓和250nm製程工藝的光刻機，一旦研製成功就會擠壓gca3500b的市場份額。
“好的，孫董事長！”
看我的一九八五。