四月二十六日。
矽谷。
gca總部。
“公司拿出200萬美元獎勵gca3500b專案部。”
週五下午，孫健接到餘建國從美國打過來的報喜電話，第二天就乘飛機來到矽谷。
啪啪……
艾德里安、布羅迪和湯普森等公司高層露出了久違的笑容，揚眉吐氣。
gca光刻機半導體研究院將研製成功的適合8英寸晶圓和350nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統，安裝在一臺gca3500a光刻機上，製程工藝突破350nm，透過多次測試，最高達到320nm，命名為gca3500b，製程工藝超過nikon3500b光刻機，還提升47%的生產效率，創了新的世界紀錄！
去年底研製成功gca3500a是一個巨大的突破，與nikon3500b光刻機的製程工藝看起來相同，但由於安裝有適合8英寸晶圓和500nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統，gca3500a的製程工藝和生產效率明顯超過nikon3500光刻機，經過sematech專家組技術認證後，ii、amd和hp半導體裝置公司預定了五臺gca3500a光刻機。
緊接著，gca股東大會透過並實施向10名特定投資者以每股1.5美元的價格，定向增發10億新股的方案，其中peng購買了3億股，atic購買了2億股，gca融資145500萬美元，現金流大增，召回和招聘了400多名研發人員和技術工人，啟動了3條光刻機半導體裝置生產線，如今能同時生產五臺gca3500a光刻機。
隨著5臺gca3500a光刻機的交付使用，使用者反應良好，ii、amd和hp等公司又預定了14臺gca3500a光刻機，還從臺積電拿到一條價值60億美元的8英寸晶圓和以gca3500a為主的半導體生產線訂單。
為了提高晶片生產工藝和一小時單位產能（wph），一家晶圓廠（fab）在一條先進的半導體生產線上一般配備20臺左右的光刻機，高低搭配，除了最下面的電晶體層需要最先進的光刻機之外，上面做銅互聯技術的無需最先進的光刻機。
一條半導體生產線中，除了佔到半導體生產線成本三分之一的光刻機外，還需要清洗裝置、高溫/氧化爐管退火裝置、勻膠機、烘乾裝置、顯影裝置、刻蝕機、去膠機、離子注入裝置、cvd/pvd/ald/pecvd/cmp等大批高精尖裝置，數量最多的是沉積裝置（包括pvd cvd）、刻蝕裝置（icp、ccp、die）和熱處理裝置（rtp），gca如今六成需要從其他半導體裝置廠定購，然後系統整合。
gca如今專心生產光刻機、刻蝕機、矽晶圓、光刻膠、掩膜版和離子注入機，重生者也不擔心gca被人制裁！
gca的股價如今2.95美元，gca3500b研製成功的訊息一旦公佈於眾，第二天的股價突破4美元都有可能。
gca的戰略投資者賺得盆滿缽滿，對華人首富點石成金的本領佩服不已。
gca3500a研製成功後，美國商務部和sematech發來賀電，聖何塞布朗市長到場祝賀。
gca管理層、技術團隊和普通員工歡欣鼓舞，幹勁十足。
gca3500b光刻機的研製成功，gca重回全球光刻機之巔，重新領導全球光刻機產業發展的步伐，對gca的意義如同浴火重生、鳳凰涅槃，在同日本半導體產業競爭中取得暫時領先的優勢，對美國半導體產業的發展也具有重大意義。
全球近八成高階晶片的訂單來自ii、amd和hp等美國高科技公司，這些公司都是sematech會員。
&natech也是揚眉吐氣，趕超nikoech會員的共同目標，ii、amd和hp等美國半導體裝置和生產公司將會搶先預定gca3500b光刻機和由gca3500b光刻機為主構成的半導體生產線。
按照雙方簽訂的專利技術轉讓協定，gca研製的適合8英寸晶圓和350nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統技術將交給bsec，bsec將在國內專利局和國際專利局分別申請公司發明專利。
萬事開頭難！