蘇姿豐、胡煜華、孟婉舟這些邏輯的上將，即便半步踏入輪值董事會，也沒有資格第一時間參觀，訊息還封鎖在最高統帥部一級。
“陸總。”
梁孟松、尹志堯等人喊了一聲。
“走吧。”
陸飛換好裝備，穿過走廊，牆壁上掛著華夏第一枚原子彈跟氫彈的當天報紙和照片。
頭頂，懸掛著一條條橫幅，都是激勵士氣的口號語，其中最顯眼的莫過於——
“搞出光刻機，挺直腰桿子！”
&nArF乾式光刻機，由邏輯、滬市微電子、長春光機、華為等多家單位、上千家供應商聯合攻克，下一步就是預生產，在生產中不斷改進完善，然後逐步實現量產化。”
孫紅軍興奮至極，“預計一到兩年，就能全部替代掉ASML和尼康的65nm光刻機。”
“還是自己的機器香啊！”
陸飛透過玻璃，看著工作人員有條不紊地操作，餘光裡注意到尹志堯等人的情緒很不對勁，“這麼難得的好日子，你們怎麼看上去不是很高興啊，難道是光刻機還有什麼質量上的問題，或者技術上的缺陷？”
“陸總，裝置沒有問題，技術也沒有問題，就是……就是有一個壞訊息……”
尹志堯一臉為難。
“什麼壞訊息？”
陸飛鼓勵道：“沒關係，說出來，不說出來，我們又怎麼想辦法解決呢？”
“陸總，ASML研發出了全球第一臺EUV光刻機，已經送到三星的研究機構預生產。”
尹志堯無奈地嘆了口氣。
“你看你，又急。”
陸飛挑了挑眉，倍感意外，這麼湊巧！
EUV光刻機的出現，相當於光刻機技術和裝置正式發展到第五代，遙遙領先於他們。
&n的gline汞燈光源為主，只適用於5μm以上製程。
&n的iline汞燈光源的第二代光刻機，製程精度來到了350到500nm。
這兩代都只能算是接近式光刻機，到了第三代掃描投影式光刻機，才實現了跨越式的突破，把最小工藝推進至150到250nm。
&nArF乾式光刻機，算是第四代，也就是步進式投影式光刻機，製程工藝最高可以推進到65nm，想要更上一層——
就得用到浸入技術，也就是讓鏡頭和矽片之間的空間浸泡於液體之中，在此基礎上，就有了四代半的浸入步進式投影式光刻機。
本來，邏輯跟ASML這些國際一線的光刻機廠商，就只剩ArFi這麼個半代差距。
但EUV光刻機一出現，又把這個差距拉到了至少1.5代，而且這個技術差距，不像製程工藝那麼好追，是整個產業鏈的全面落後。
“不是我急，陸總，一旦EUV預生產成功的話，英特爾、三星、臺積電也許不出三五年，就能得到EUV光刻機的生產線……”
尹志堯話裡無不透著焦慮。
“尹教授，這臺EUV，ASML、三星、英特爾、蔡司、臺積電它們花了多久才研製出來？”陸飛透過面罩的玻璃，直直看去。
“從林本堅提出浸潤式微影技術的理論，到現在，大概十三、十四年。”
梁孟松站出來回答。
“對嘛，這不就結了。”
陸飛拍了拍尹志堯的肩膀，“EUV集歐美日韓這麼多全球最頂尖的半導體公司和人才，也要花13年的時間，何況是我們呢！”
“陸總說的沒毛病！”
孫紅軍機敏地當捧哏。
“咱們研究起步晚，技術經驗積累少，人才還不夠不精，再加上特麼的技術封鎖，能在這麼短的時間，攻克65nmArF乾式光刻機，就已經很不正常了，再快就該拍科幻片了。”
陸飛笑道：“落後不可怕，可怕的是不追趕，你看我們現在，已經步入正軌了。”