就在張汝金開始介紹起國內光刻機現狀時，蘇遠山笑著打斷了他的話。
“張叔，好歹給咱們留點念想……”
張汝金一怔，當見到蘇遠山嘴角掛起的苦笑時，他也滿嘴苦澀，繼而笑著搖了搖頭。
是的，這玩意，真不能深究。一旦深究下去，就必定落到國內的整體工業狀況上去，而這個問題……太具體，也太沉重了，遠不是遠芯能夠承擔和討論得起的。
現在遠芯看似站在了和國外同行的同一個高度，甚至某些領域還有些許的領先。但國外的科技企業之下，是整整一座從基礎到中端再到高階的金字塔。而遠芯，則只是一棟在低矮平房中拔地而起的大廈——更要命的是，承載這座大廈的，還有許多是來自國外的技術和裝置。
一座摩天大廈，就算修建得再高，再富麗堂皇。就穩固性而言，永遠也不可能和金字塔相提並論。
這便是，為什麼剝離代工廠會對遠芯造成那麼大的影響，蘇遠山也要堅持優先代工廠的發展的原因。
“光刻機那邊，鄭工簡單地給我通了個氣，表示目前暫時還沒有受到影響。但他也未雨綢繆，加大了採購力度。”蘇遠山搖了搖頭，眉頭輕輕地皺起。
國內光刻機的發展已經偏離了原本的軌跡，從原本的杳無聲息到如今能夠提供滿足國內0.8微米需求的436nm gline機型，其實這算一個好訊息。
但這也意味著，它將極有可能提前遭到技術封鎖。
需要說明一點的是，按照波長和線寬，理論上，g線光源也是可以達到0.25um節點的極限，但由於波長緣故，越是要達到極限，工藝也就越是複雜——如今宏芯的光刻機已經進廠半年多，華晶那邊依舊在磨合著依舊很成熟的0.8微米工藝。再加上g線光刻膠目前最高也僅支援到0.5微米，是以……它未來不可期。
並且就連遠芯，製程推進也是在尼康i線365nm光刻機的基礎上進行，雖然理論最小工藝節點依舊是0.25微米。但波長和線寬的優勢，使得其更容易達到節點。
此外，早在去年，intel就推出了基於0.35微米制程工藝的PentiumMMX，輕而易舉地就回到了效能王座的同時，也彰顯了其晶圓廠強大的製程工藝實力。
根據小道訊息，intel的0.25微米工藝也在突破當中。
相比之下，德遠這邊，還在為0.35微米工藝打著攻堅戰。
&n的KrF準分子鐳射作為下一代光刻機的光源，緊接著便是193nm的ArF——也就是大名鼎鼎的DUV。屆時，憑藉多重曝光技術，DUV將會把製程節點提高到65奈米的乾式光刻極限。
再往後……便是浸沒式技術的天下了。
如果說，還有什麼能夠讓蘇遠山有信心和勇氣去直面光刻機的未來，恐怕就是“多災多難的”雙工件臺以及目前八字都沒一撇的浸沒式光刻技術了。
沉默幾秒後蘇遠山沉聲道：“對於國家來說，光刻機就是好不容易養出來的金寶貝，不可能就此不管的，我們只需要做好我們應該做的即可。”
說著他用力揮了一下手，彷彿想要揮去陰霾和迷霧。
陳靜見狀毫不掩飾自己的心疼，輕聲道：“要不自由討論一下？”
“沒事，下一條。”蘇遠山抿了抿嘴，緊接著望向田耀明，末了又看了一眼末尾的李逸男一眼。