第241章 MPCVD (第2/2頁)

陳舟和沈靖再次對視一眼,沈靖給陳舟遞了個眼神,交給你了,我不懂這些……

而陳舟只覺得納悶,怎麼這師徒兩人,都喜歡問人問題呢?

偏偏還都是這麼簡單的問題,要問也問點有難度的呀?

想是這樣想,陳舟肯定不會說出來,萬一這高冷學姐……

收回思緒,陳舟輕聲說道:“普通半導體材料受到自身效能的約束,在高溫條件下的應用會受到極大的限制。”

“而金剛石半導體器件具有高載流子遷移率、高熱導率和低介電常數等優異的電學性質,能夠在高頻、大功率和高溫高壓等十分惡劣的環境中執行。”

“金剛石透過摻雜可呈現n型導電和p型導電,效能會遠超砷化鎵、氮化鎵和碳化矽等材料,是目前最有希望的寬禁帶高溫半導體材料。”

潘詩妍略顯意外的看了陳舟一眼,沒想到這人知道的還不少。

“沒錯。但不光如此,”潘詩妍補充道,“由於金剛石帶隙很寬,在半導體領域中,既能作為有源器件材料,像場效電晶體和功率開關,也能作為像肖特基二極體這樣的無源器件材料。”

頓了頓,她看著陳舟又問道:“你剛才說金剛石是一種寬禁帶高溫半導體材料,怎麼看出來的?”

陳舟看了潘詩妍一眼,想了想,既然你開啟了話題,那我就不客氣了。

陳舟便說道:“金剛石的帶隙寬度是5.5eV,它的高載流子遷移率在4500cm??/(V·s,空穴為3800cm??/(V·s),高熱導率在22W/(cm·K,高擊穿電場在10MV/cm。”

“而其電子載流子飽和速率在1.5×10^7到2.7×10^7cm/s之間,空穴載流子飽和速率在0.85×10^7到1.2×10^7cm/s之間,低介電常數是5.7。”

“基於這些優異的效能引數,金剛石被認為是製備下一代高功率、高頻、高溫及低功損耗率電子器件最有希望的材料。”

說完這些,陳舟停頓了一下,又繼續說道:“雖然金剛石的儲量非常稀少,但是上世紀50年代,人們便已經用石墨合成了人造金剛石。”

“而且人造金剛石和天然金剛石的結構相同、效能相近,也就很好的解決了金剛石來源的問題。”

“此外,上世紀80年代,透過建立熱絲化學氣相沉積裝置,也就是HFCVD法,已經能夠在非金剛石襯底上製備金剛石薄膜。到了90年代中期,金剛石膜沉積理論已經相對完善了。”

“雖然後來在20世紀末到21世紀初的時候,受到製備方法的制約,金剛石膜的研究不太順利,但隨著重複生長法、三維生長法及馬賽克法的出現,促進了大尺寸金剛石製備的發展。”

隨著陳舟的敘述的聲音,他身旁的沈靖已經目瞪口呆了。

好傢伙,你真的是我們數學專業的嗎?

不是,你真的是我們物理和數學專業的嗎?

這怎麼化學方法都這麼熟悉?

當然,更令沈靖驚訝的是,這些內容,他怎麼沒在文獻上看到?

不管是四十三所發的課題資料,還是陳舟給他發的課題資料,都沒有……

除了沈靖外,原本正在做實驗的研究員們也是一臉驚訝的回頭看著陳舟。

你們不是說找的是燕大數學系的人來幫忙嗎?

我怎麼看這像是化學系的?

而問問題的潘詩妍,也同樣被陳舟這流利的敘述給驚到了。

原本想著給兩個新人上上課的她,卻沒想到被陳舟給重新上了一遍課。

陳舟看了眾人一眼,緩緩將目光落在實驗裝置上,輕聲說道:“你們採用的製備金剛石薄膜的方法,應該是微波等離子體化學氣相沉積裝置,也就是MPCVD法。”

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