工件臺又一次加熱矽片，給工件做了一次堅膜，加固已經保留的光刻膠，進一步清除不需要的那部分膠以及其他成分的殘留物。
堅膜完成之後，矽片被再次從頭開始，開始了第二次的光刻流程，用的還是那塊標準掩模。
顯影完成後，二次光刻的光刻膠被固化，多餘部分被清除，矽片被送到了顯微鏡下。
剛剛把矽片表面的清晰顯微影象跳出來，馬娟就語帶欣喜的啊了一聲。
“師兄，有了有了，能看出來，精度好高啊！”
馬娟一邊瞄著顯微鏡，一邊嘴裡喊著。
對於套刻精度高這一點，高振東是有所預計的，決定套刻精度的主要就是工件臺，而三軋廠的一幫老師傅大發神威，將工件臺的定位精度搞到了1.5μm。
而東北光學所的光學系統圖形畸變只有1個μm不到，這兩者結合起來，套刻精度絕對差不了。
不過估計歸估計，在沒看到真正結果那一天，誰都不敢徹底把心放下來。
聽見馬娟的話，高振東哈哈大笑：“來來來，我看看。”
馬娟從顯微鏡下讓開，高振東把眼睛湊到顯微鏡的目鏡外，顯微鏡裡甚至能看到他自己的眼睫毛，但他現在明顯沒有閒心觀察自己的睫毛是否好看，急著往視場裡看去。
顯微鏡裡，兩次光刻的痕跡非常明顯，一條疊在另一條上面，重合度非常高。
兩次光刻的痕跡，兩邊各露出來一小部分，這部分的單邊寬度，基本上就是套刻誤差了，粗粗看去，目測連整個線寬的一小半都不到。
“好！太好了！馬娟，你們選取一些典型點位，要覆蓋到整個矽片，馬上做個比較全面的測量比較。”
另外一個試驗人員走了上來，和馬娟一起，一邊找點，一邊測量，一邊記錄。
時間的相對論在這裡體現得淋漓盡致，馬娟她們覺得時間過得很快，而等結果的高振東等人覺得時間過得太慢了。
又快又慢的一段時間過去後，試驗人員在計算機面前坐下來，開始將資料輸入計算機，這種簡單統計分析，他們都是直接在原始碼裡敲資料。
處理演算法的C程式碼早就寫好了，現在他們就是在往一個陣列裡填資料而已。
這種辦法，好就好在處理演算法可以隨時根據需要修改。
鍵盤聲啪啪作響，現場人員的心情反而安定下來，從剛才他們測量中報的數來看，這個結果差不了。
隨著最後一個資料輸入完畢，馬娟啟動了編譯執行指令。
演算法過於簡單，沒有帶來任何除錯上的麻煩，很快，螢幕上就跳出了一個數字。
編過臨時程式的人都懂，怎麼簡單怎麼來，這個數字甚至不帶任何單位。
“1.97”。
其實小數點後一位就夠了，那個沒有寫出來的單位，是μm。
&n！
雖然早有所料，但是當這個數字跳出來的時候，高振東還是哈哈大笑了起來。
“哈哈哈……好！太好了！”
這個套刻精度，已經超出了當前所需，PMOS套刻次數少，其實不嚴格的說，10μm的解析度下，5μm的套刻精度都是夠用的。
現在，高振東可以直接宣佈，我們的第一代PMOS工藝積體電路，線寬是10μm。
這個線寬聽起來不咋樣，但是舉個例子就知道它的用處了，DJS59的原型，那片金色的C8008，它的工藝就是10μmPMOS！那一小片晶片上，電晶體數量是6000+。
而首個4Kbit（512Byte）的DRAM，工藝是8μmNMOS，雖然是NMOS，但是並不意味著只有NMOS才能用於和NMOS的最大區別是開關方向相反，而且NMOS開關速度比PMOS要快2.5倍左右。
但是這是61年，PMOS慢點又不是不能用。
可惜那兩片晶片出現的時候，高振東還沒法鎖定兌換的能力，但是這沒有關係，還是那句話，行業初期，主打一個簡單湊合能用就行，設計的核心難度不大。
DJS59的電晶體的電路，其實基本上和C8008內是一模一樣的，現在高振東要做的，就是把這個結構還原到光刻掩模上去。
不過這是個力氣活兒，高振東一個人是搞不成的，太浪費時間了，這個事情，可就落在京城工大這一屆的部分大四學生頭上了。
原本高振東的考慮是光刻機不敢太樂觀，初期預計是50μm左右，後來看到三軋廠的老師傅和東北光學所如此給力，才把SZ61XXX系列晶片頭三片改為了20μm。
&n有望，那不得樂死，就算得先教半年學生，再畫上個一年兩年的圖，那也是一個字兒——值！
而且有了這些基礎，能搞的事情，可就多了，比如自動化人的最愛——微控制器。
不過不論是CPU化的DJS59也好，還是微控制器也好，都還需要時間，至少得等兩樣東西。