東北光學所，接到了一個光路系統的研製要求，要求的發起方，來自十二機部，至於是做什麼用的，並沒有說明。
要求非常貼心的分為了兩級，實現過程也就分成了兩步。
&n的鐳射束擴散為直徑160mm的平行光束。
第二步，是將這束擴散後的平行光束，將光路中的玻璃板上影象重新縮微投影為一個20mm的光斑。要求縮微投影后，圖形變形不超過5微米，越小越好。
這個要求說簡單那不簡單，說麻煩嘛，好像也不是非常麻煩，正好卡在好像努力一下就能夠的著的程度。
對於搞技術的人來說，這種要求是最舒服的，既不會沒有挑戰性和成就感，又不會要求太高難以實現。
而且對方明確說了，分兩步實施，第一步做出來就先提交第一步，第一步儘量快，第二步可以慢慢做，但是質量一定要穩。
還能分步提交成果，這就更舒服了。
甚至對方還非常貼心的，送了一臺鐳射器過來，正是355nm鐳射光源。
這個不是紅寶石鐳射器，本來是高振東為鐳射測距準備的YAG（釔鋁石榴石）鐳射器，這東西功率比較容易做大，而且波長根據摻雜可調。
這正是高振東和1274廠積體電路工藝研究中的一部分，這個東西一看就知道，用於光刻機的光路系統。
把整個光路系統分成兩步，正是高振東的主意。
第一步，相對簡單一些，可以用於接觸式或者接近式光刻機，這兩個都是直接投影的，模版的解析度多少，實際解析度大約就是多少。
而第二步困難一些，等東北光學所慢慢搞就行，這是預想用於投影式光刻機的，搞個一年兩年三年的都不是什麼問題，搞不出來，接近式光刻機也夠用了，搞出來了，那就純賺了。
與此同時，某化學研究所，搞有機材料的同志也接到了十二機部關於光敏材料的研究要求，研究要求明確指明瞭，光敏材料可以是光聚合型、光分解型、光交聯型中的一種，用於鐳射感光成像，工作光波長355nm。
十二機部還送來了一臺鐳射器，以及簡單的鐳射擴散配件，用作試驗過程中的光源。
說實話，研究所的同志，還是第一次看到要求這麼明確，連技術路線都給說得明明白白的要求檔案。
甚至光交聯型這種，他們也是看了要求檔案裡面的解釋才搞清楚是個怎麼回事兒。
要是所有的需求方都像這一家這樣就好了，化學研究所的同志美滋滋的想，還能學東西！
其實這是高振東沒辦法，他不知道現在到底哪一種能搞成，總之65年這東西是有的，乾脆把幾種常見的光刻膠的路線都給寫了上去，你做出來哪種算哪種，無非就是正膠負膠的區別，都能用。
一個技術剛興起的時候，自由度是最大的，不用考慮太細節的東西，而且配套技術不用考慮技術路線的差別帶來的效能差異，因為要求還沒高到那份上，大概就是能用就行，整出來就算本事。
像日後光刻技術那一大堆高階技術在這個年代都不用考慮，根本用不上，也沒條件用上。
搞個10微米~100微米的光刻，就想著把浸潤光刻、多重曝光、EUV光源這些弄上來無疑是吃飽了撐著了。
且不說這些美滋滋的配套廠所，高振東自己，正在和廠裡的一堆八級工研究工件臺的事情，雖然不搞多重曝光，但是套刻還是需要的，工件臺的定位精度還是要考慮。
套刻，就是把多個圖形分多次刻到同一工件上，形成一個完整的圖形。
如果只是刻一次，那倒不需要管套刻精度，只要保證光的投射範圍都在晶圓上以及光投影精度即可，可是在積體電路工藝裡，是要分很多次光刻，來形成不同結構，而且這些結構之間又有電路連線，所以套刻精度還是要保證的。
至於雙工件臺，就先扔一邊了，一個工件臺還沒搞利索呢，想那麼多是給自己找麻煩。
“高總，你這個東西的定位精度要半絲？”一群老八級工有點嘬牙。
1絲，從機加工的角度，等於10微米，半絲，5微米。
高振東點點頭：“嗯，先不考慮移動定位精度，就考慮兩個工件固定時定位的相對精度就可以。”
如果微縮投影還沒搞通的話，那移動定位精度就意義不大，因為不需要在晶圓上一個晶片一個晶片的刻，而是一次性投影出整個晶圓的影象，這種情況下，哪怕套刻，主要考慮的也就是模版、晶圓固定時的相對位置精度了。