光刻機公司包括光刻機光源廠、光刻機雙工作臺廠和光刻機組裝廠。
八棟小高層已經住進了員工及家屬，四棟已完成裝修，四棟正在裝修，四棟還沒有封頂。
“孫總，四十五所、建華機械廠、滬海光學精密機械研究所、滬海光學儀器廠的386名技術人員和一線員工已經住進新宿舍，還有143名二線員工將於九月十五日前搬遷完畢，十月十五日前，219名微電子中心和109廠的技術人員和普通員工將全部完成搬遷。”
魏建國、李昌傑和錢國培彙報搬遷工作。
上週四，魏建國、鄧國輝代表BSEC同艾德里安、湯普森代表的GCA進行了談判，大家同一個大老闆，如同一家人，氣氛融洽，最後BSEC以磁懸浮式光刻機雙工作臺系統專利交換了GCA擁有的ArF準分子鐳射器專利和800nm製程工藝專利的終身使用權和開發權，魏建國和艾德里安分別代表雙方公司簽訂了專利技術轉讓協定，鄧國輝、湯普森和雙方律師也簽上自己的名字，蓋上公章。
轉讓協定還規定，在對方專利技術基礎上開發的產品只能在自己生產的光刻機上使用，不能單獨賣給第三方，利用對方的專利技術開發新的專利技術，不能申請公司發明專利，專利方有權申請新的公司發明專利，使用和轉讓。
BSEC轉讓磁懸浮式光刻機雙工作臺系統的專利技術（還沒有取得公司發明專利證書）給GCA，獲得了專利局稽核委員會的批准。
特事特辦！
&n製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統上升級到8英寸晶圓、500nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統，&n製程工藝的GCA來說不難，但也要投入資金、人員和時間。
GCA在磁懸浮式雙工作臺系統專利技術上研發成功的所有雙工作臺系統技術都屬於BSEC。
BSEC光源研究所從立項和研發成功具有自主智慧財產權的ArF準分子鐳射器，鄧國輝需要2000萬元的研發資金，計劃三年內完成。
半導體產業發展日新月異，三年後，要不是被193nm波長的世界性光學難題卡住了，尼康光刻機的製程工藝早就超過了65nm！
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【我的一九八五】 【】
如同神助！
不然BSEC將越掉越遠！
&n製程工藝專利技術對於GCA如同雞肋，但對於BSEC來說如同神助，一下子跨過1um製程工藝，掌握了800nm製程工藝，但BSE製程工藝專利技術的基礎上，研發成功500nm、350nm、250nm、180nm、90nm等製程工藝專利技術都屬於GCA。
互利共贏！
BSEC和GCA的專利技術轉讓也是一柄雙刃劍！
檯面上，GCA似乎吃了虧，但重生者不這樣認為。
 
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