以學部委員黃坤、王首武和鄧國輝為首的十二名光刻機半導體專家組成的專家鑑定組，透過現場測試，專家組組長黃坤親自書寫鑑定報告。
京城半導體裝置股份有限公司研發成功的光刻機雙工作臺系統，在現場，對磁懸浮式雙工作臺系統進行了十次測試，能提升晶片製程工藝精度15%，提高晶片生產效率35%，還有不斷提升的潛力，這項發明在光刻機專利技術中屬於世界首創，屬於重大核心技術發明，強烈推薦申請公司發明專利。
十二名專家組成員在鑑定報告上簽名同意。
魏建國下午四點拿到鑑定報告，四點半來到國家專利局，遞交了公司發明專利的申請，公司發明專利申請被受理，將向社會公示六個月。
磁懸浮式光刻機雙平臺系統是世界光刻機核心技術中的首創技術，京城半導體裝置公司透過國家專利局將向美國、日本、荷蘭、韓國、德國和法國的國家專利局申請公司發明專利。
“恭喜孫健！”
一直忙得焦頭亂額的朱領導接到專利局秦局長的彙報後，心情愉悅，他一直關注京城半導體裝置公司的建設和整合情況，打電話向孫健祝賀，心裡感嘆，不愧是國內首富，一個突發奇想，三個月不到的時間，公司就研發成功一項光刻機行業首創的重大核心技術專利，其他光刻機公司今後想提高製程工藝精度和產量，除了自己投入巨資研發，都繞不過這項重大核心技術專利。
京城半導體裝置公司從此在世界光刻機半導體裝置產業中有了話語權！
孫健是這項公司發明專利的設想者，鄧國輝將他的名字排在發明人的前面，但被他親手刪除了。
“首長，鄧國輝、歐陽明、陳偉長、鍾德偉和夏季常同志都是好樣的，我的信心更足了！”
哈哈……
朱首長哪能聽不出孫健為五人表功？
荷蘭，埃因霍溫。
ASML公司。
“普拉多，京城半導體裝置公司上週三，向中國國家專利局遞交了磁懸浮式光刻機雙工作臺系統的公司發明專利申請，能提高晶片製程工藝精度15%，提高晶片產量35%，對方搶在了我們的前面。”
理查德得到訊息後，向普拉多彙報，工程師瓊斯今年五月向公司申請，研發光刻機雙工作平臺系統專案，公司撥款一百萬美元的研究經費，成立了二十人的專案聯合研發組，如今還沒有結果。
“理查德，你趕緊派人，瞭解清楚這項公司發明專利的實質內容，是否與瓊斯正在研發的雙工作平臺系統專案的思路相同？”
“好的！”
東京都。
尼康半導體裝置公司總部。
“武田君，你親自前往京城一趟，要是京城半導體裝置公司發明的光刻機雙平臺系統，真的能提高晶片製程工藝精度15%，提高晶片產量35%，我們就重金購買對方的公司發明專利，用在我們的光刻機上。”
半導體裝置公司總裁景田二郎接到尼康公司章駐京辦總經理武訓太郎的電話，有些驚訝，京城半導體裝置公司剛成立二個多月，就發明了磁懸浮式光刻機雙工作平臺系統，他立馬就預感這項重大核心技術專利將對光刻機產業產生深遠的影響，重金購買對方的公司發明專利，提升光刻機的製程工藝和生產效率，遠遠的甩開對手。
“嗨！”
東京。
佳能半導體裝置公司總部。
“酒井君，你親自趕往京城半導體裝置公司，瞭解磁懸浮式光刻機雙工作平臺系統的專利轉讓價格？我們與對方協商好，一旦對方拿到公司發明專利，我們就第一個重金購買對方的公司發明專利。”
半導體裝置公司總裁御手橫一接到佳能駐京辦總經理木村敬二的電話，立馬就預感這項重大核心技術專利能幫助佳能光刻機縮短與尼康半導體裝置公司差距的機會。
“嗨！”