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“水，而且是18兆歐的去離子純水。”周碩用力的點了點頭。
水，我們這個星球上面無數生命的源泉。它由一個氧原子和兩個氫原子組成，在常溫常壓下為無色無味的透明液體。
它有很多的物理特性，比如說溫度不同導致的密度和形態變化，重水、輕水、超臨界水等不同的特殊狀態，以及流動性、熱傳導性、溶解性和導電性等等，這種地球上最常見、可以說是成分最簡單的物質之一，想要寫完它的全部知識卻需要一本最厚的書。
但具體到光刻機技術上，為什麼周碩說水可以讓0.8微米工藝，短時間內跨越到0.5微米技術？
這還要從光刻機工藝提升的兩個方向說起。
所謂的製程工藝，究竟指的是什麼呢？製程，實際上就是單晶矽晶圓上面的線寬。構成積體電路的基礎，是單晶矽圓片上透過光刻腐蝕出來的線條。這些線條的粗細，也就決定了同一塊晶片能夠整合多少電晶體，能夠達到什麼樣的效能。
而光刻機上決定線寬的因素，主要是光源和鏡片這兩種。光刻機生産晶片，其本質上和照相機並無太大區別。光線照射景物然後反射到照相機的鏡頭上，最後在膠片上形成影像。這個影像不就是比實物要小的多的多了嗎？
同樣，光刻機在單晶矽圓片上留下來的線條，可也不是一筆一筆刻上去的。而是透過對光學掩膜版進行曝光，然後讓這些設計好的邏輯電路影像透過一組組鏡頭。最終得到比掩膜版要小得多的影象。這樣對光敏感的光刻膠，就會被有選擇的光照所去除。這些沒有光刻膠覆蓋的晶圓部分。就會在接下來的工藝中成為電晶體的結構基礎。
不斷的追求鏡片加工極限，就是光刻機提高工藝水平的主流選擇。這也是為什麼全世界只有三家光刻機生産商。而最為著名的就是日本尼康和荷蘭阿斯麥as.）。尼康本身就是日本戰前做潛艇潛望鏡的廠家，後來則是相機業的霸主。而阿斯麥的鏡頭則來自於卡爾蔡司，這家公司幹嘛的就不用說了，地球人都知道。光刻機離開了這兩家光學企業，什麼摩爾定律都得去見鬼。
當然，這並不是說就沒有其他辦法來提高工藝條件了。除了鏡頭，實際上使用何種光源也會導致線寬的不同。不同波長的光波，就如不同規格的刻刀。波長越短的光波，就能夠在光刻膠上留下越細的痕跡。最早的光刻機因為加工精度不高。使用的汞燈只能提供365n的i線光。後來更換了準分子鐳射之後，光波才降低到了193n的鐳射。
未來想要縮小刻蝕的解析度，甚至還要繼續上14n的極紫外光。至於10奈米以下，可能人類的科技就已經研究出其他的加工方式了吧。
當然這些只是不準確的科普說法，如果具體要解釋一下光波和刻蝕解析度的關系，或者解釋一下照準系統的最大解析度概念之類的……
本書的長度恐怕會有些不足，以及略有騙稿費的嫌疑。雖然這些知識如果真的講出來千字3分就太便宜了。本著經不輕傳的道理其實作者也不懂）就不多說了。
言歸正傳，塗岸北腦海中靈光一現，正是水的一種特性。那就是光透過液體介質後光源波長就會縮短。其縮短的倍率即為液體介質的折射率。也就是說光刻機的光源如果在照射到光刻膠之前先在水中穿行一次，就相當於換了一個更細的刻刀。
而水的折射率是1.44，當0.8微米波長的光線穿過水之後，0.8除以1.44豈不正是0.56微米？如果這項技術真的有可行性。那確實是可以在不提高精密製造水平的前提下，得到更高一代的晶片製程技術。
這麼簡單的原理，周碩當然不是第一個想到的。用水縮短光源的波長來提高製程工藝。是未來光刻機普遍採用的技術。也就是學名叫做沉浸式光刻機的裝置。透過不斷努力，未來的光刻機早就已經實現了這項技術。不僅是折射率1.44的水。更開發出折射率更高的液體。沉浸液成為鏡片和光源之外，第三個能夠快速減小線寬的因素。