“目前國內的中芯國際已經可以代工14nm的晶片了，腦機連線晶片14nm綽綽有餘。”
&n，甚至28nm都夠了。”
“更何況目前申海微電子已經研發出了28nm的光刻機，未來即便腦機連線晶片需要7nm的晶片，那時候7nm應該也能量產了。”
程鋼主要是從事生物醫藥領域的投資，young身為idg合夥人，不止關注生物醫藥領域。
在前幾年國產半導體大火的時候，young對國產半導體行業有很深的研究。
他完全不像程鋼那麼樂觀：
“國產光刻機遠沒有外界宣傳的樂觀，目前國產光刻機實現了28nm的製程，但是良品率遠沒有asml來的高。”
&n好研究，但是想再往前，14nm、7nm的光刻機會異常困難。”
“目前光刻機指標有node cd和fpitch cd。”
“fpitch cd 是專用於光刻領域描述光刻分辨度的技術指標。比如說前一代193i光刻機， hp cd極限值等於38 &n.現在的euv nxe &n.”
“node cd跟 hp cd不是一個概念。”
“node cd是一個半導體器件的概念，目前主流媒體所說的技術節點便是這個node cd。”
“一般來說 node cd約等於1/2 *hp cd。”
cd全稱是critical &nension
“其中11年 intel首先將finfet技術引入22 &n節點。”
&n要求 &n的光刻hp cd。這個要求在實際工藝中很難實現，太接近38nm極限值了。”
“所以intel率先使用double patterning技術。這一技術把同一層的非常靠近的光刻圖案分解到兩個掩模(mask上。分兩次曝光實現。”
“同理，selfaligned的技術也被引入，三次曝光，四次曝光都成為了可能。”
程鋼聽得滿臉問號，內心對young在半導體領域的造詣之深感到震驚。
五十歲的人了對前沿技術信手拈來，能做成idg的合夥人果然都是狠人。
他沒有打斷young，因為他對這方面也很感興趣。
“所以就光刻技術而言，解析度並不是大問題。尤其在selfaligned技術中。deposition澱積可以實現非常好的精度控制，特別是ald，能實現 &n on &n的精確控制。”
&nask上，晶片的圖案自然不能由著晶片ic設計師隨意畫了，得遵循光刻的規則。”
“花為海思部門有在申海的，有在鵬城的。沒一家在彎彎。”
“而這種光刻版圖的規則毫無疑問是晶片代工廠的最高機密。tsmc不可能透露給客戶的。海思只能把邏輯設計交給臺積電，臺積電再進行製造的最佳化。”
“海思原始設計沒辦法考慮這些光刻規則。這也是為什麼業界一直認為長期競爭中，intel與三星優勢的原因。”
“三星很早就把三次，甚至四次曝光（selfaligned）技術引入了nand flash生產。”
“因此當臺積電還在22 &n時，三星就開始宣傳我們已經有14 甚至 10 &n技術了。大概是13年的時候。”
“三星與臺積電在晶片代工中是競爭對手。臺積電嘴巴上當然不能輸。悄悄的放寬了node cd的定義，也把自己技術從22 &n吹到了14nm。”
“這種誇大也延續到了現在，實際上三星跟臺積電的7nm只比intel的14nm強一點，強的有限。”