透過將精細電路圖案曝光在稱為晶圓的半導體基板上而製成的。
而光刻機裝置的作用就是在掩膜版上繪製的電路圖案，透過投影透鏡縮小，再將圖案曝光在矽晶圓上。
光刻機作為晶片生產過程中，複雜性最高，技術含量最高的裝置，被稱為半導體工業皇冠上的明珠。
晶片生產，光刻機是很重要。但也只是沉積，光刻，刻蝕，離子注入、清洗、氧化、檢測，這前七道生產晶片工藝環節中的一道環節裝置。
單單靠一臺光刻機，就直接造出一枚枚晶片出來，這簡直就是天方夜譚的事。
木村光一帶著眾人來到了一臺顯微鏡邊，他拿出了一片晶圓遞給徐教授，並說道：“這片晶圓的晶片，光刻環節是由霓糠公司N79K光刻機完成的。”
很顯然，他是想讓徐教授去觀看晶片裡的微觀結構，來證明霓糠公司的光刻機是不是真的已經達到一微米了。
“謝謝！”徐教授說完接過晶圓，並把它放在顯微鏡下，仔細的看了起來。
現場異常的安靜……
也不知道過了多久.....
徐教授深吸一口氣，默不作聲，離開了顯微鏡。
“老徐，怎麼樣？”
“是啊！老徐，你倒是說句話啊！”
徐教授無奈的回答道：“你們自己看吧！”
聞言，陳工、王工、李工、趙工等眾人也輪流觀看起顯微鏡下晶片裡的晶圓微觀結構。
陳工最先開口：“這片晶片的工藝節點精度數，比我們造的晶片工藝節點精度數，要小很多。
每一塊晶片裡面，容納的電晶體數至少有十幾萬個。”
王工看向徐教授，“確實是使用了一微米曝光度的光刻機，可以不用懷疑。
現在，島國光刻機技術毋庸置疑，已經是最強國家了。”
1亳米＝1000微米
1微米＝1000奈米
晶片的節點精度數越小，代表的工藝水平越先進，單位面積內所能蝕刻的電晶體也就越多，電晶體數量越多，意味著晶片的運算速率越快，效能也就越強。
徐教授沒有回答而是沉痛的點了下頭，表示陳工和王工倆人的話沒錯！
事實也的確如此！
島國給予企業極優厚的政策和豐厚的資金，並在1976成立了超大規模積體電路技術研究組合，技術研究組合的成員企業，實現上下游廠商的通力協作，共同研發，共同進步。
霓糠和加能兩公司更是在光學裝置上，不管是鏡頭還是平臺，還是自動化技術，全部都是自研，這也是研發光刻機的前置技能，能快速追上米國的前提。
從源頭解決需求，研發溝通更迅速，技術迭代更精準，生產成本更低廉。
米國的光刻機廠商守舊與傲慢，而且還故步自封，根本就不聽取顧客的反饋意見。
去年也就是1982年霓糠公司交付給米國客戶第一臺光刻機裝置的時候，就開始僱傭當地工程師建立矽谷霓糠精機服務中心，用高效和低成本的打法，開始從米國三雄手裡奪下一個接一個大客戶。
就這樣，十年不到時間，島國光刻機廠商反超風光一時的米系廠商，直接將米系光刻機廠商按在地上摩擦。