他們的半導體產業起步最早，世界上第一塊晶片就是他們製造出來的。
晶片是半導體產業的產品，半導體是用來做晶片的材料。
這個行業，通俗一點，就叫晶片行業，學術一點就叫半導體行業，實際上相當於土豆和馬鈴薯的區別。
僅僅設計出晶片，還是遠遠不夠的，他還需要用光刻機在晶片上進行凋刻。
光刻機就相當於凋刻用的“筆”。
而世界上，只有3個國家有能力製造出光刻機，其中能製造出高階光刻機的，只有島國和荷蘭。
島國的國土面積雖然不大，卻掌握著強大的科技實力和工業基礎。
在八十年代，島國的光刻機是全世界最先進的。
那個時候，尼康、佳能公司也能生產光刻機，曾一度佔領行業50%以上的份額，包括ibm、英特爾、德州儀器在內的大客戶，無一不爭相搶購他們的光刻機。
然而，由於這兩家公司的一個失誤，導致島國將光刻機巨頭的皇冠，拱手讓給了荷蘭的asml。
&nl從2000年左右開始研發euv光刻機，並決定大規模量產。
彼時，島國光刻機企業卻認為系統太過複雜，並未選擇跟進。
&nl還是一家小公司，面對島國制霸光刻機市場，他們決定以小博大，彎道超車，試一試臺積電，林本堅提出的“浸入式光刻機技術”。
這個技術，你聽起來覺得很高階，實際上是一種非常簡單的技術，簡單到陳偉東第一次聽說的時候，還以為自己聽錯了。
所以他對這件事情印象深刻。
浸入式光刻技術，就是在光刻鏡頭，與待刻的矽晶片之間，充滿液體，就可以大幅度提高光刻機的加工精度！
陳偉東將這項“技術”，告訴了克魯格教授。
最近這些天，他在實驗中將那臺從樹屋研究所帶回來的光刻機，精度一百九十奈米的光刻機，成功刻製出了一百零五奈米的密集圖形！
這一結果讓他欣喜若狂！
幾近失態！
通常的光刻機，在光刻鏡頭與矽晶圓之間，沒有任何遮擋。
當然，從另一個角度來說，它們之間，存在的是空氣。
浸入式的思路，就是用液體來替換掉中間的空氣。
由於液體具有折光率，所以當紫外線透過液體介質之後，它的光源波長就會縮短，從而起到精微刻制的作用。
本來他們還覺得有些老舊的光刻機，突然搖身一變，成為了一百零五奈米的光刻機，遠遠的超過了現有的光刻技術！
&nl首創。
早在80年代初，就有科學家採用浸入技術，成功提高了光刻效果。
然而，這項技術，它的液體很容易汙染光學鏡片。
所以這個這個時期的主流光刻技術研究，只是將其作為一個過渡手段，並沒有起到足夠的重視。
一旦下一代光刻技術成熟，便會毫不猶豫的拋棄浸入式光刻。