要想奪回光刻機的高階市場，gca只能靠光刻機半導體研究院研製成功適應8英寸晶圓和500nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統，一舉突破8英寸晶圓和500nm製程工藝的瓶頸，研製成功8英寸晶圓和350nm製程工藝的光刻機。
&ner、memc和zeiss&nt ag，就是給gca一個重獲新生的機會，幫助美國公司在光刻機上同日本公司競爭！
半導體產業是國家的經濟實力、科技實力和工業生產能力的綜合表現，成為國家的戰略產業，bsec的技術實力比gca相差甚遠，要不是在重生者的指導下研製成功光刻機雙工作臺系統，與gca談判的資格都沒有。
寄希望bseikon和gca實行彎道超車，成為世界第一的光刻機公司只是一種理想。
euv光刻機堪比大型航空發動機，前世，舉國之力研製成功了大型航空發動機，但沒有研製成功euv光刻機。
在重生者的目標中，將gca打造成技術世界第一的光刻機公司，佔據高階光刻機市場，將bsec打造成中端光刻機公司，在中端市場佔據一定市場份額。
重生者不是超人！
能否追上g，只能靠bsec光刻機半導體研究院的科技人員了！
重生者要是將gca的專利技術偷偷的拿過來送給bsec，就等著坐牢！
重生者不想當英雄，更不願意當烈s！
死過一次的人將名譽地位看得很澹。
與家人和朋友享受生活才是重生後最大的願望！
gca重獲新生，不僅bsec獲利，重生者也能在瓦s納協定出臺之前，有機會引進一條8英寸晶圓、180nm製程工藝的半導體生產線……
去年底，gca在研製適合8英寸晶圓和500nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統的過程中，由於在光刻機中安裝了一套zeiss&nt ag生產的新一代光學系統（耗資275萬美元），適合8英寸晶圓和500nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統沒有研製成功，但光刻機樣機制程工藝突破500nm，達到350nm。
意外驚喜！
&n製程工藝的光刻機，被命名為gca3500a光刻機。
gca3500a光刻機追上了nikon3500a光刻機，由於安裝有磁懸浮式雙工作臺系統，製程工藝精度和生產效率明顯超過了nikon3500a光刻機。
gca3500a光刻機突破了困擾了g製程工藝光刻機的瓶頸！
孫健吩咐艾德里安申請公司股票停牌，邀請sematech專家組進行技術認證，拿到認證鑑定後，gca3500a光刻機制造技術分別向美國專利局和世界專利局申請公司發明專利，邀請全球晶圓公司參觀gca3500a光刻機樣機。
由美國政府每年財政撥款1億美元資助的sematech，宗旨就是提高美國國內半導體產業的技術。